主要规格及技术指标

镀膜系统由溅射工艺腔体，传送腔体和控制机柜组成 1. 工艺腔体配备优于750 l/s分子泵和优于290 l/min干泵； 2. 工艺腔配备一套真空计； 3. 工艺腔配备5个4英寸磁控溅射靶枪； 4. 工艺腔配备1个直流电源，1个直流电源切换盒；1个射频电源，1个射频电源切换盒； 5. 工艺腔配备8英寸旋转样品台，样品台可加热； 6. 工艺腔配备三路工艺气路，分别为：Ar，O2，N2，每一路气路配备独立质量流量计； 7. 工艺腔配备三位阀自动空压系统； 8. 配备一个进样腔，并配备一套真空计； 9. 进样腔包含手动磁力传送杆和自动控制传送阀门； 10. 包含一套光学式膜厚测量模块； 11. 进样腔极限真空优于5 x 10-7 Torr； 12. 工艺腔极限真空优于5 x 10-7 Torr； 13. 8 英寸镀膜均匀性优于±5%；

主要功能及特色

1.（装载能力）提供 8 英寸晶圆及以下尺寸样品的镀膜； 2.（工艺方式）配备直流电源和射频电源，可实现多种导电与非导电材料的沉积，同时可以实现共溅射（掺杂、化合）和顺序溅射连续多层膜； 3.（辅助气氛溅射）能够实现高温、氮气辅助条件下的氮化物沉积； 4.（工艺效率）配备Load-lock腔体，能够实现快速样品更换；

主要附件及配置

无