主要规格及技术指标

1) 真空腔室：SUS304不锈钢，Φ500×H（650～800）mm，水冷，立式前开门结构；真空室内表面及防污板抛光至镜面； 2) 真空系统：复合分子泵（抽速：1600 L/s）+直联旋片泵（抽速14L/s）；“两低一高”数显复合真空计（测量范围：1×105Pa～1×10-5Pa）； 3) 真空极限：优于6.0×10-5Pa； 4) 抽速：抽至9.0×10-4Pa≤30min； 5) 基片台：标配平板式基片台，抽屉式结构，基片托尺寸：150×150mm，该范围内可装卡各种规格的样品/基片；配有气动挡板，磁流体密封； 旋转：旋转速度0-25转/分连续可调，磁流体密封，光控定位，设定在前门中心位置方便取样； 6) 电子束蒸发源：e型电子枪一支，枪功率10KW；束偏转角270度；配置一套偏转扫描电源，一套电子枪灯丝电源； 7) 速率和膜厚控制系统：采用Inficon薄膜沉积控制器在线监测、控制蒸镀速率和膜厚，1只水冷探头；膜厚仪速率显示分辨率±0.015ā，厚度显示分辨率±0.015kā； 8) 控制方式：PLC+触摸屏手自一体控制； 报警及保护：对分子泵、膜厚仪探头、蒸发电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护；

主要功能及特色

该设备用于制备高质量、厚度精确控制的金属（特别是高熔点金属）、氧化物以及化合物薄膜，主要蒸镀材料包括：Au，Ag，Al，Ca，Cu，Cr，Ti，Pt，W等金属单质和SiO2，ZnO，Ta2O5，ITO，TiO2，Al2O3等氧化物薄膜材料。已广泛应用于高校、科研院所制备金属/化合物，/导电薄膜/光学薄膜等。

主要附件及配置

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