1. 兼容4英寸以下衬底及碎片; 2. 双面曝光; 3. 光刻线条精度优于1.5微米; 4. 伸缩气缸结构; 5. 面内光强均匀度优于3%; 6. 配备光强计。
接触式曝光机通过精确的对准系统将掩模与涂覆光刻胶的基底对准,利用可控光源使掩模上的图案以高精度复制到基底上,实现图案转移。
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