适用晶圆尺寸:8 寸及以下 适用晶圆厚度:1800 微米以下 目标减薄厚度:6寸贴膜保护碳化硅直接减薄至150um以上,在加工及取片过程中无碎裂等意外故障; 研磨方法:6寸碳化硅晶圆采用基板工艺时,减薄至100-150um时,在加工及机台取片过程中无碎裂等意外故障. 操作方法:向下进给式研磨,在线实时测量厚度半自动(即人工放片吸附后其它加工为自动加工),或者全自动 研磨轴数量:2套(分别用于粗磨和精磨) 研磨轴转速:0-3000rpm(伺服马达控制) 研磨轴轴承:高精密机械式轴承 水箱单元:水循环过滤装置可有效过滤加工产生的废屑,降低废液排放 研磨轴功率:≥7k 研磨轴行程:Z轴上下行程距离 100mm,确保安全可控 研磨轴进给速率:0.1-99.9um/sec(进刀由滚珠丝杠控制,定位由线性光栅尺控制) 吸附台直径:不小于φ300mm 研磨砂轮直径:不小于φ300mm 研磨负载显示:控制面板实时显示负载值,超过设备设定负载值时设备会自动报警并停止运行,设备配置三色指示灯及紧急停止按钮 真空工作台:1个,多孔陶瓷吸附盘 工作台移动速度:0.5-5mm/sec,可以较好地控制移动速度(电机控制) 真空工作台轴承:高形精密机械式轴承 真空工作台转速:0-400rpm,转速可控,加工效率可以自由控制(同服马达控制) 修轮单元数量:2套(分别用于粗磨和精磨) 修轮单元转速:0-3000rpm,转速可控,修盘效率可以自由控制(伺服马达控制) 测厚方式:接触式探针,可以在线实时测量厚度 测厚分辨率:≤0.lμm 测厚重复精度:≤±1μm 控制面板: 主面板 7.4寸PLC触摸屏,用于操作输人,显示研条件 操作面板: 并显示在线实时测量的厚度,最多保存10个工艺条件便于客 户随时调出使用。 减薄速度: 2000#砂轮去除速率不低于18μm/min(粗) 8000#砂轮去除速率不低于6um/min(精)
晶圆研磨
无
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