仪器分类
三靶磁控溅射沉积系统
三靶磁控溅射沉积系统
仪器编号
KG231519
规格
500W
生产厂家
沈阳拓宇真空技术有限公司
型号
JGP500
制造国家
中国
分类号
03060302
放置地点
Array信息港园区3211外延生长区
出厂日期
2023-10-26
购置日期
2023-10-26
入网日期
2023-12-26

主要规格及技术指标

极限真空≤6.6×10 -5pa,抽速:40分钟可达到6.6×10 -4pa,全系统漏率≤1×10 -8pa L/s,真空室停泵关机12h后系统保压≤5pa,加热温度≥600℃,自动压强控制0.3-13Pa

主要功能及特色

制备薄膜

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期