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LPCVD（常压碳膜去除）
仪器编号
规格
生产厂家
SVCS
型号
SVcFUR22003-RD-2H-ZJCU-CN
制造国家
捷克
分类号
放置地点
Array3211薄膜区
出厂日期
2022-06-09
购置日期
2022-06-09
入网日期
2022-06-09
主要规格及技术指标
支持2/3/4/6寸wafer炉次性加工，1-25片每炉，片内厚度均匀性σ/average≤±2%、片间厚度均匀性σ/average≤±3%、批次间厚度均匀性σ/average≤±4%。
主要功能及特色
1、碳膜去除；
2、磷扩散和高温退火；
主要附件及配置
无
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
|---|
1000元/小时
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