主要规格及技术指标

1.腔室：外热式单腔腔室； 2.样品台配有可拆卸片托，可放下最大8英寸晶圆； 3.反应温度：最高150°C，温度控制精度土1°C; 4.2路标准加热液态前驱体源，配置swagelok高温快速ALD阀（响应时间<10ms)手动阀、50ml不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度RT-200°C,控制精度土1°C; 5.1路常温源，配置swagelok快速ALD阀（响应时间

主要功能及特色

原子层沉积主要用于生长超薄的、高致密性、无针孔、高均匀性金属氧化物（如氧化锡，氧化铝）

主要附件及配置

无