1. 极限真空:不高于5x10^-4Pa; 2. 抽气速率(从大气抽气至5x10^-4Pa):不大于30min; 3. 支持最大晶圆尺寸:不小于8英寸; 4. 电阻蒸发源数量:不少于2个; 5. 扩展性:同时配备磁控溅射枪1个; 6. 配备石英膜厚仪。
热蒸镀系统在高真空环境下,通过加热使蒸发材料汽化,然后让气态的材料沉积在基底表面,形成薄膜,用于制造半导体或光电器件中的导电或绝缘薄膜等。
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