主要规格及技术指标

最大样品尺寸不小于直径6英寸，兼容承载各种小尺寸片（2", 4"）或不规则碎片（最小尺寸不大于1.5 cm×1.5 cm） 配置Ar、O2、CHF3等工艺气体管道； 离子束有效束径≥210mm； 离子束最大束压不低于1500 V，最大束流不低于400mA； 加速电压可调范围：0~2000V； 工件台可旋转，转速可调，转速范围：0-20RPM； 工件台倾斜角度可调，调节范围0~145度，控制精度+/-0.1° 集成法拉第杯用于离子束电流密度测量。 配有光学终点监测系统，用于原位监测刻蚀过程，包括：光谱仪，外部电源，控制计算机，真空组件等实现全自动终点监测。 主要功能及特色 设备功能：可实现基于氩气气体的Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Mo、TiN等金属的刻蚀工艺，以及基于CHF3气体的氧化硅等电介质的刻蚀工艺

主要功能及特色

最大样品尺寸不小于直径6英寸，兼容承载各种小尺寸片（2", 4"）或不规则碎片（最小尺寸不大于1.5 cm×1.5 cm） 配置Ar、O2、CHF3等工艺气体管道； 离子束有效束径≥210mm； 离子束最大束压不低于1500 V，最大束流不低于400mA； 加速电压可调范围：0~2000V； 工件台可旋转，转速可调，转速范围：0-20RPM； 工件台倾斜角度可调，调节范围0~145度，控制精度+/-0.1° 集成法拉第杯用于离子束电流密度测量。 配有光学终点监测系统，用于原位监测刻蚀过程，包括：光谱仪，外部电源，控制计算机，真空组件等实现全自动终点监测。 主要功能及特色 设备功能：可实现基于氩气气体的Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Mo、TiN等金属的刻蚀工艺，以及基于CHF3气体的氧化硅等电介质的刻蚀工艺

主要附件及配置

电柜，主机，冷却机，真空泵