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仪器详情
抛光机
仪器编号
KG230495
规格
EJW-610I-2ALD-D
生产厂家
ENGIS JAPAN CORPORATION
型号
EJW-610I-2ALD-D
制造国家
日本
分类号
05080911
放置地点
Array信息港园区3211外延区
出厂日期
2023-04-20
购置日期
2023-04-20
入网日期
2021-12-28
主要规格及技术指标
1.适用晶圆尺寸 4，6英寸碳化硅晶圆 2.组成单元 设备具备主轴单元，定盘单元，冷却单元，供液单元，控制单元，安全单元 3.定盘尺寸 Φ610mm 4.定盘电机 3.7kW 5.定盘转速 0-80rpm 6.气缸压盘尺寸 Φ248mm 7.气缸轴尺寸 OD63*250st 8.压力控制 精密调节器 9.压力步数 5步 10.操作界面 7.4寸液晶触摸屏 显示加工条件，操作输入 11.控制方式 PLC/Proface
主要功能及特色
用于碳化硅，氮化镓，砷化镓，磷化铟，硅等半导体材料的研磨或抛光
主要附件及配置
无
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
|---|
600元/小时
次氯酸钠抛光液1元/毫升氧化铈抛光液0.5元/毫升;氧化硅抛光液暂计不收费（根据用量收费)另外：1个小时内（1小时）只能换一次抛光盘
次氯酸钠抛光液1元/毫升氧化铈抛光液0.5元/毫升;氧化硅抛光液暂计不收费（根据用量收费)另外：1个小时内（1小时）只能换一次抛光盘
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