主要规格及技术指标

1.光谱范围：245-1000nm； 2.单点测量时间：＜10s； 3.光斑尺寸：≤300μm； 4.自动找焦行程： ≥0-15mm； 5.自动扫描测量： 200mm*200mm（兼容2/4/6/8 inches wafer）； 6.扫描测量时间：≤5min/49points； 7.样品台：X/Y/Z自动，满足φ200mm样件真空负压吸附固定测量； 8.光强切换：6个光强切换挡位，自动/手动双模式，软件界面控制； 9.膜厚重复精度：优于0.005nm （100nm SiO2/Si，30 repeats，1σ）； 10.偏振精度：穆勒矩阵非对角m=0±0.005（测量裸硅全90%满足）； 11.退偏修正：包含修正半峰宽，厚度不均匀及数值孔径非零级光散射退偏等； 12.全局参数校准：定义一维到多维阵列光谱快速全局匹配初值，覆盖单点/多点扫描测量； 13.其他功能：含自由度可调快速反射式探测激光定焦，微区相机，电脑，校准片，调试工具等； 14.偏振参数：穆勒矩阵：16组，椭偏角：0-90°，相位角：-90-270°为实测及拟合值域范围； 15.偏振差值：一键获得薄膜Psi-diff和Delta-diff 数据； 16.建模操作：单独界面控制波长步进模型以及多振子模型添加，参数锚点图形化拖放匹配调节，实现多振子手动/自动拟合并控制图例开合； 17.结构光路设计：采用高度偏振集成，无外接光纤/光源/探测器设计，高稳定龙门机架非悬臂设计，规避重心外移引起光路不稳定； 18.分析软件：内置数百种的光学材料常数数据库，包含cauchy、sellmeier、Tauc-lorentz、couple、oscillator等模型，输出格式为TXT、CSV、sme、esnap等。

主要功能及特色

通过测量样件引起偏振态信息改变量，快速无损，精准测量各向同性/各向异性微纳薄膜的厚度、几何关键尺寸形貌信息以及材料光学特性信息。

主要附件及配置

无